専門書『PFAS規制と半導体産業への影響』に「VB1000」が掲載されました

2026年7月31日、CMCリサーチより専門書『PFAS規制と半導体産業への影響』が発刊されました。

本書は、国内外で進むPFAS規制の動向をはじめ、半導体産業への影響、PFAS代替材料・代替技術などについて、各分野の専門家が解説する専門書です。

その第2章に、

「PFAS包括規制の潮流と半導体産業への影響
~次世代洗浄ソリューション『VB1000』が拓く未来~」

が掲載されました。

PFAS規制と半導体産業における洗浄工程の課題

現在、REACH規則におけるPFAS包括規制の検討が進んでおり、半導体産業をはじめ、PFASを使用する製造工程では、今後の規制への対応が大きな課題となっています。

特に洗浄工程においては、規制対象となる可能性のある物質を使用後に「回収・処理する」という対応だけでなく、そもそもPFASを工程に持ち込まない洗浄方法へ転換することも、今後の選択肢の一つと考えられます。

今回掲載された章では、こうしたPFAS規制の潮流と半導体産業への影響を踏まえ、水系高機能洗浄剤「VB1000」の特徴や可能性について紹介しています。

主な内容は以下の通りです。

  • PFAS包括規制の潮流と半導体産業への新たな課題
  • 従来の洗浄剤が抱える課題
  • 水系高機能洗浄剤「VB1000」とは
  • 「VB1000」の洗浄特性と作用要因
  • 安全性と洗浄性の両立、加温による洗浄力向上
  • 「VB1000」の導入メリット
  • 半導体RCA洗浄における一部工程代替の可能性
  • RCA洗浄工程簡略化の可能性

PFASを使用しない洗浄工程という選択肢へ

「VB1000」は、PFASを使用しない水系高機能洗浄剤として、フッ素系洗浄剤などに代わる新たな洗浄ソリューションの一つとなることを目指しています。

環境規制への対応だけでなく、作業環境、安全性、洗浄性能、工程の見直しなど、製造現場ではさまざまな視点から洗浄剤の選定が求められています。

今回の専門書への掲載が、PFAS規制への対応や、半導体製造をはじめとする各種製造工程において、今後の洗浄方法を検討される皆さまの参考となれば幸いです。

書籍情報

書名: 『PFAS規制と半導体産業への影響』
発行: CMCリサーチ
発行日: 2026年7月31日

書籍の詳細は、CMCリサーチのWebサイトをご覧ください。
https://cmcre.com/archives/147112/