半導体製造工程におけるRCA洗浄の課題を解決する『VB1000』の代替可能性

半導体製造の根幹を支えるRCA洗浄は、シリコンウェーハの清浄度を確保するための標準プロセスですが、強酸・強アルカリ性の化学物質を多量に使用するため、作業リスクや環境負荷といった深刻な課題を抱えています。

特にRCA洗浄の主要な工程では、以下の化学物質が使用されています。

• 第1段階 (SC-1)：有機物・パーティクル除去（水酸化アンモニウム、過酸化水素）
• 第3段階 (SC-3)：イオン汚染除去（塩化水素、過酸化水素）

これらの化学物質は高い清浄度を実現する一方で、作業者の健康リスクや複雑な排水処理、そしてデリケートなウェーハへの影響が常に課題でした。

ここで、水とミネラルのみで構成された『VB1000』が、この課題を根本から解決するソリューションとして注目されています。

#RCA洗浄 #半導体洗浄 #VB1000 #代替ソリューション #精密洗浄